正半導体プロセスエンジニア

募集要項

仕事内容	■リモートプラズマソース開発のニーズ・用途に応じたプロセス開発や評価、実験チャンバーの運用を担当していただきます。【具体的には】（1）実験計画の立案目標を定め、スケジュールと評価内容を決める。（2）実験準備実験で必要となる測定機器、対象ワーク、備品の準備。（3）実験と確認計画に基づき実験を進める。実験結果をレビューし、不足や追加点があれば（1）から再検証を行う。（4）設計、条件へのフィードバック開発製品のデザイン、及び処理条件の方針をまとめてデザインレビューを行い、製品化に向けて設計へフィードバックを行う。 ※開発テーマごとにプロジェクト体制で進め、機械、電気、ソフト設計者をアサインしプロジェクトリーダーの下、各担当が責任を持って役割を遂行いただくことを期待します。
必要な経験・スキル	【必須要件】 ■半導体製造プロエスにおける成膜・エッチングの経験、知識をお持ちの方【歓迎要件】 ■製品評価の経験をお持ちの方 PCスキル指定なしマネジメント経験指定なし英語スキル英会話／指定なし英文読解・作文／指定なし
学歴	専門・短大・高専・各種学校卒業以上(文理不問)
勤務時間	08:30 ～17:15
給与	年収/400万～800万円
勤務地	京都府
待遇	【保険】健康保険、雇用保険、労災保険、厚生年金【諸手当】通勤手当、地域手当、次世代育成手当、外勤手当、若年者住居補助手当（※適用者は会社規程による）ほか【待遇・福利厚生】財形貯蓄、社員持株ほか
休日休暇	年間122日／（内訳）完全週休2日制、年末年始、有給休暇、慶弔休暇、一部週休3日制、フレックスホリデー、フリーホリデー
備考	高い技術力を持ち、世界でもトップシェアの製品を持つ企業での増員募集となります。関西で腰を据えて長く働きたい方におすすめの求人です。

求人企業情報

社名	株式会社堀場エステック
設立	1974年1月
資本・株式	国内資本株式非上場
会社概要	■流体計測・制御機器、真空計測・分析機器、液体材料気化装置、標準ガス発生装置、ガス発生・精製装置、精密混合装置及びその応用製品の開発・製造・販売＜沿革＞ 1974年　（株）堀場製作所ほか4社の共同出資により、（株）スタンダードテクノロジを設立 1980年　マスフローコントローラを発売し、半導体分野に進出 2004年　（株）堀場エステックに社名を変更 2005年　（株）堀場製作所の完全子会社となる 2007年　「HORIBA Technology Center」を米国シリコンバレーに開設 2014年　「京都福知山テクノロジーセンター」を開設 2015年　半導体技術の研究開発専用拠点「HORIBA最先端技術センター」を新設 2017年　HORIBAグループの基幹工場「阿蘇工場」第5期拡張工事が完了（生産能力が従来に比べ倍増） 2018年　ホリバ・インスツルメンツ社（米国）が「HORIBA Reno Technology Center」を開設